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ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術　成膜技術と膜・界面のの物性科学　NTS

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独自の薄膜合成法で新高温超伝導体の創製や新物性の発現に挑む | NTT技術ジャーナル

「原子層堆積による成膜と薄膜評価技術」

均一なナノ薄膜で酸化物半導体トランジスタを作製東大、高集積化に期待 | Science Portal - 科学技術の最新情報サイト「サイエンスポータル」

絶縁体界面に生じる金属層の発生メカニズムを解明（酸化物エレクトロニクスにおける新素子実現に向けて）

新機能材料創生部門｜研究開発事業部｜公益財団法人電磁材料研究所

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独自の薄膜合成法で新高温超伝導体の創製や新物性の発現に挑む | NTT技術ジャーナル,「原子層堆積による成膜と薄膜評価技術」,均一なナノ薄膜で酸化物半導体トランジスタを作製東大、高集積化に期待 | Science Portal - 科学技術の最新情報サイト「サイエンスポータル」,絶縁体界面に生じる金属層の発生メカニズムを解明（酸化物エレクトロニクスにおける新素子実現に向けて）,新機能材料創生部門｜研究開発事業部｜公益財団法人電磁材料研究所

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